Historique
Création de la société DEFITECH, spécialisée dans les applications plasma sous vide.
L’activité de la société était basée principalement sur des études de faisabilité et de transferts de technologies de certaines applications comme :
Travaux de R&D sur les écrans plats pour le compte de France Telecom R&D.
Traitements plasma de Préformes en silice destinées à la fabrication de fibres optiques.
Étude et développement de réacteurs microondes spécifiques.
Rachat de la société DEFITECH par la société Micro-ondes Energie Systems (M.E.S)
De nombreux nouveaux domaines d’applications industrielles sont développés :
Dépôts de couches barrières de Bore obtenus par plasma sur fibre optique en défilement.
Développement du procédé ACTIS (Amorphous Carbon Treatment on Internal Surface) pour la société SIDEL (1998). http://www.sidel.com/fr/content/dow...
Intégration de la société MES dans le groupe SIDEL.
Collaboration avec les Ingénieurs de Sidel à l’industrialisation du procédé ACTISTM
Sortie du groupe SIDEL et création de la société ISYTECH
Isytech, plasma et traitement de surface - 9 rue Fulgence Bienvenüe 22300 Lannion (France) - Tél: 02 96 48 52 20 | Administration |
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