Dépôt de silice

Le dépôt de silice amorphe (SiOx) sur des contenants en polymère représente une avancée significative dans le conditionnement des plastique. Cette couche mince de SiOx agit comme une barrière, créant une frontière imperméable sur le support.
Ce dépôt présente de nombreux avantages :
il est transparent et incolore, compatible avec les micro-ondes et n’altère pas la recyclabilité des matériaux.

En formant une interface entre le matériau plastique et l’environnement extérieur, la silice amorphe améliore les propriétés fonctionnelles de l’emballage sans altérer ses caractéristiques mécaniques.
Cette technologie de PECVD est particulièrement précieuse pour les produits sensibles, et offre une solution durable et écologique pour l’industrie plastique.

Dépôt de couches carbonnées

Il existe un large éventail d’approches pour déposer des films barrières afin de pallier au taux de perméabilité élevé des plastiques dans les applications d’emballage.

ISYTECH a développé une gamme de procédés brevetés de PECVD pour obtenir les niveaux élevés de barrière sur les polymère souhaités au sein de l’industrie.

Certains de ces procédés sont approuvés par la FDA pour les emballages alimentaires.

L’emballage est placé dans des conditions de vide inférieur à 1/1000 d’atmosphère. Un gaz est ensuite injecté et un courant électrique est appliqué.
Par un choix adéquat de gaz, il est possible d’obtenir une fine couche de matière organique - quelques dizaines de nanomètres d’épaisseur - sur la paroi interne de l’emballage qui possède des performances barrières spécifiques